ЭМ-5026АМ

Установка совмещения и экспонирования
Предназначена для совмещения изображений фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину (подложку) контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины.
Диапазоны рабочих длин волн 225-260 нм; 280-335 нм;350-450 нм
Фотолитографическое разрешение 0.4 … 0.7мкм
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 110мм ±2.5%
Случайная составляющая погрешности совмещения ±0.1мкм
Диаметр обрабатываемых пластин 50мм; 60мм; 76мм; 100мм; 60×48мм
Размер фотошаблонов 102 х102мм, 127х127мм
Чувствительность привода манипулятора совмещения: по X, Y 0.01
мкм; по углу 0.1секунд
Двупольный микроскоп с расщепленным полем и плавным изменением увеличения: с объективами ОМ 0,4/8 и окулярами 10х 150х … 480х; с объективами ОМ 0,2/14 и окулярами 10х 90х … 250х
Потребляемая мощность 800Вт

Обратная связь